投资6.7亿卢布，俄罗斯宣布研发X射线光刻机！比ASML的EUV光刻机还要先进？

光刻机是半导体行业的明珠，美国希望在这个领域牢牢掌握主动权，因此对中俄等均进行严格的限制和制裁，中国一直没有最先进的EUV光刻机。而在俄乌冲突之际，昨天，美国更是对俄罗斯最大的芯片制造企业Mikron进行全方位制裁。近日，据俄罗斯媒体报道称：俄罗斯将研发当前全球最先进的X射线光刻机，或许比ASML的EUV光刻机性能更先进。投资6.7亿卢布
据报道，俄罗斯莫斯科电子技术学院 (MIET)承接了贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）。研发的光刻机计划达到EUV级别，但技术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机。

“MIET已经在无掩模EUV光刻领域取得了进展，包括与国内其他科研机构和科学家团体联合开展的研究。该项目还将涉及 Zelenograd 公司 ESTO 和 Zelen ( 点击阅读全文 )

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