全新一代光刻机概念股？

6月10号上海光刻机所取得重要进展，14日起媒体上陆续发布：
根据外媒最新的报道，上海微电子全新一代光刻机预计在2021年年底或2022年初量产下线，其采用与ASML DUV光刻机相同的光源技术，不过是国产的。 这种光源其实是科益虹源研发的，能够用在DUV设备上 。
也就是说，上海微电子的全新一代光刻机能够用于生产制造28nm到10nm之间的芯片，甚至可以采用多层曝光技术生产7nm芯片。
虽然ASML的光刻机技术先进，但上海微电子的光刻机占领了国内八成以上的市场，国产新一代光刻机下线后，ASML在国内的市场自然会进一步缩小。EUV光刻机不能自由向中国出货，DUV光刻机又被国产光刻机冲击，ASML自然会与最大的市场失之交臂。届时，或许就真如其总裁所说，15年后，ASML在国内市场就没有份额了。
参股上海微电子的：张江高科
科益虹源相关的：东方中科 ( 点击阅读全文 )

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