【华西中小盘&科创】安集科技深度报告（688019）：CMP抛光液龙头，扬帆半导体材料国产化&制程升级

核心观点安集科技核心产品CMP抛光液和光刻胶去除剂是半导体制造的核心材料。公司产品的技术水平、性价比等方面在国内已具备领先优势，未来有机会成为国际级的中国半导体材料制造商。
►CMP化学机械抛光液：国产唯一供应商，将受益于半导体国产化趋势和先进制程的抛光次数增加，未来三年年均复合增速24%。公司专研技术十五年，14纳米抛光液全国领先。我们看好公司为中国半导体国产化趋势下的抛光液材料首要受益者，此业务尚有5-10倍增长空间。未来三年抛光液需求将快速增长，预计2019-2021年，CMP抛光液收入为2.46亿元/3.04亿元/3.90亿元，同比增长率为19.7%/23.6%/28.6%。毛利率为47.3%/50.2%/53.7%。
► 光刻胶去除剂：国产技术领先供应商，将受益于国产化和光刻设备增加所带来的制程增量需求。未来三年年均复合增速32%。公司新涉入的半导体材料，产品线已 ( 点击阅读全文 )

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