半导体行业观察 发布于 2019-09-22 10:40:29
下所列的全部内容,项目完成时应完成该专题(项目)下所列所有考核指标。
项目实施周期为 3-4年,参研单位总数不得超过 10 个。
专题 6 设 4 个课题,由项目单位提出具体研究内容和可考核的技术、经济指标,每个课题原则上支持 1 项,同一单位(含全资、参股、控股关联单位)支持不超过 1 项(高校除外)。所有专题除特殊说明外,鼓励大企业联合创新型中小企业、高校、科研院所等,产学研合作申报。
专题 1:第三代半导体材料生长技术和关键设备(专题编号:20190169)
项目 1.1:高质量氮化镓单晶材料制备及关键技术研究
研究内容
1)研究高质量低位错氮化镓(GaN)单晶衬底的关键制备技术:研究 GaN 的初始成核与生长中的位错拐弯与合拢的基本过程与形成机理,以及外延生长区流场温场的调控对晶体位错、应力形成的影响与优化;
2)研究 4-6 英 (
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