华为芯片被“断供”之后…

和工程施工设备——光刻机两个方面。
EDA行业从上世纪八九十年代发展至今，形成了美国新思科技、楷登电子科技、德国明导国际三足鼎立的局面；光刻机方面，目前是荷兰ASML（美国是背后大股东）一家独大。
中国有相关技术吗？
有。华大九天成立于2009年，其前身曾承担重大科技攻关研发项目——熊猫 IC CAD 系统的设计，并因此获得国家科技进步一等奖，打破了当时西方对中国EDA软件的禁运。2018年，中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，有能力制造10纳米级别的芯片。
中国起步较晚，但进步神速。
以美国为首的西方对我们的“限制”，更多来自于先发优势和专利保护，很多问题不是不能解决，而是需要一点耐心和时间。其实美国自己也明白，这种“封堵”拦不住中国，但为了大选，为了政治目的，为了“甩锅”转嫁压力 ( 点击阅读全文 )

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